克拉瑪依電子級EW-I/II/III/IV超純水系統

發布時間：2016/6/23

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電子級超純水系統概述

當今半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級超純水為四個等級，分別為EW-I級≥18MΩ·cm，全硅≤2ug/L、EW-II級≥15MΩ·cm，全硅≤10ug/L，EW-III級≥12MΩ·cm，全硅≤50ug/L、EW級≥0.5MΩ·cm，全硅≤100ug/L 以區分不同的電子級超純水水質。其中對于超純水關鍵的指標如：電導率（電阻率）、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同。

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)

2、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)

3、預處理系統→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)

4、預處理系統→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)

電子半導體超純水系統通常直接接入國家自來水標準的水為源水，通常有多介質過濾器，活性炭過濾器，精密過濾器等構成預處理系統，另有RO反滲透主機系統，離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。系統水箱設有液位控制系統、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠程輸送至中控室上位機，實現現場就地和集中控制兩種操作方式，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，或者公司可按照客戶對于水質的要求進行特殊定制，既能用水水質達標，同時降低了所需成本，使該設備與其他同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

電子級超純水系統用水標準：

符合美國ASTM純水水質標準、電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準

電子級超純水系統選型表：

型號	產水量（L/H）	電壓/功率范圍（V / Kw）	設備主機尺寸 (LWH mm)	純水箱	產水水質
ZYUP-DH/E-250L	250	380 / 1.95	20008001600	氮封水箱	符合國家電子級用水標準
ZYUP-DH/E-500L	500	380 / 2.05	20008001600	氮封水箱
ZYUP-DH/E-1000L	1000	380 / 2.20	20008001600	氮封水箱
ZYUP-DH/E-1500L	1500	380 / 2.80	250010001700	氮封水箱
ZYUP-DH/E-2000L	2000	380 / 3.96	250010001700	氮封水箱
ZYUP-DH/E-3000L	3000	380 / 6.65	300012001800	氮封水箱
ZYUP-DH/E-4000L	4000	380 / 6.80	300012001800	氮封水箱
ZYUP-DH/E-5000L	5000	380 /11.05	350013002000	氮封水箱